概   述：

DH-6900為脂(zhi)肪細胞酸酰胺蠟分離(li)于溶液(ye)中的(de)預(yu)膨潤(run)漿狀觸變劑；其已借助溶液(ye)合理有效(xiao)的(de)純化，能帶于各(ge)種(zhong)溶液(ye)型安(an)全體系的(de)漆(qi)配(pei)料(liao)配(pei)方中，在水性油(you)漆(qi)系統(tong)的(de)中達成(cheng)厲害的(de)網(wang)格的(de)結構，其出色(se)的(de)觸性質發生變化能供(gong)給了非常好(hao)的(de)抗沉降性、防流掛和(he)較好(hao)的(de)散落性。

物理指標：

外  觀：     乳黑色膏(gao)狀物

固水(shui)分含量：    20±1%

溶  劑：     石(shi)油天然氣溶液/無水乙醇

比(bi)  重(zhong)：     0.89±0.05

酸  值：     高于5

胺  值：     小于(yu)等于(yu)3

年均粒度(du)： 6-7微米(mi)換算

熔  點：     135℃

特   性：

● ;在建筑真石漆裝(zhuang)修標(biao)準中構成借(jie)助氫(qing)鍵的(de)功效而構成婦科凝(ning)膠網格設計，給(gei)建筑真石漆裝(zhuang)修標(biao)準強觸退行(xing)；在低(di)分割下(xia)做(zuo)到(dao)設計粘稠度(du)，有明顯合理(li)地透明桌面鋁粉、色粉和鮑爾環(huan)填料等(deng)顆粒(li)物，處理(li)茶葉保存(cun)時(shi)沉降，或(huo)使沉淀出(chu)的(de)溶解(jie)并應有可再發(fa)散性；

● 在(zai)水性金屬漆基礎施工進程中，管(guan)用避免 流掛的誕生；防沉(chen)/防流掛功效保證(zheng)準確時(shi)間長；

● 增長行為無尤為受到限制，能不經歷過(guo)研磨(mo)機(ji)，在高(gao)速的散落下即刻充分發揮其(qi)穩定性，散落適應能力體溫(wen)寬，普通至70℃均可適用(yong)；

● 在漆料風險(xian)管理體系(xi)中,不能溶于而進(jin)行(xing)析出疑(yi)膠粒狀或粗粒，能緩(huan)解鋁粉、珠光(guang)粉等材(cai)料顏(yan)色(se)的(de)定向就業排順；

● 對涂膜的質感度和耐(nai)候(hou)性方面無非常明顯影晌；

適用范圍：

能(neng)(neng)夠用于基(ji)本上所有的稀(xi)釋(shi)劑(ji)型(xing)真(zhen)石(shi)(shi)漆(qi)保障體(ti)系，如(ru)改性環(huan)氧(yang)樹脂(zhi)(zhi)膠漆(qi)、高無(wu)水硫酸(suan)銅厚涂(tu)膜真(zhen)石(shi)(shi)漆(qi)、丙稀(xi)酸(suan)、聚脂(zhi)(zhi)、不是處于飽和狀態聚脂(zhi)(zhi)、丁二烯(xi)基(ji)酯樹脂(zhi)(zhi)膠、氯(lv)化硫化橡膠等，也能(neng)(neng)夠用于鋁粉漆(qi)、珠光漆(qi)和重防污真(zhen)石(shi)(shi)漆(qi)；

用法及用量：

當作(zuo)防(fang)沉劑(ji)時(shi)，“添(tian)加(jia)量為1.0-2.0%（粉末涂料方(fang)法消費量）；

是 防流掛(gua)劑運用(yong)時，用(yong)水量為2.0-5.0%（藝(yi)術漆成分消(xiao)費量）；

后修改時(shi)，安全使用髙速發散機混雜酰胺蠟漿都比較適合(he)，溫(wen)暖控制在(zai)70℃這(zhe)，帶速為(wei)1500-2000rmp，乳狀(zhuang)液絞拌時(shi)間段約為(wei)30分種；

做好(hao)的放入方式(shi)是先與的部分聚酯樹(shu)脂、萃取(qu)劑混(hun)自(zi)制預擴散(san)漿，自(zi)制標(biao)準為DH-6900:二甲苯:硅橡膠 =20:40:40，上述所說原輔(fu)料一并產出分散(san)型溶器中，以1000rmp身(shen)邊的車(che)速預乳狀(zhuang)液約57分鐘至均(jun)衡睡(shui)眠狀(zhuang)態，再以1500-2000轉/半個小時(shi)的流速快(kuai)速吸(xi)附10-307分鐘，增(zeng)溶時(shi)混(hun)合茶葉(xie)應應當(dang)下轉動(dong)，以取(qu)得更勻(yun)的增(zeng)溶成果。此法時(shi)候含金(jin)屬色漿的真石(shi)漆裝修標(biao)準。

觸性質(zhi)發生變(bian)化會在高(gao)裁切和長時(shi)(shi)期下而少，因只要需(xu)求拋光分散式(shi)時(shi)(shi)，實(shi)操時(shi)(shi)期應減少。